中国研发出国产深紫外光刻机能生产8纳米及以下芯片

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中国官方本月发布首台（套）重大技术装备推广应用引导目录，包含了套刻等于及少于8纳米的氟化氩光刻机，意味着中国已研发出可生产8纳米及以下芯片的国产深紫外光刻机。

中国工业和信息化部上星期一（9月9日）发布目，在录集成电路生产装备名单中包含了一款氟化氩光刻机，套刻为≦8nm。

氟化氩服务于深紫外光刻机。上述深紫外光刻机可生产8纳米及以下芯片。