美国造出0.7nm芯片，EUV光刻机都做不到

和其光同其尘

日前，美国企业Zyvex使用电子束光刻技术制造了0.7nm的芯片，这种芯片可用于量子计算机。Zyvex推出的光刻系统名为ZyvexLitho1，基于STM扫描隧道显微镜，使用的是EBL电子束光刻方式，制造出了0.7nm线宽的芯片，这个精度是远高于EUV光刻系统的，相当于2个硅原子的宽度，是当前制造精度最高的光刻系统。


EBL电子束光刻机的精度虽然可以轻松超过EUV光刻机，但是这种技术的缺点也很明显，那就是产量很低，无法大规模制造芯片，只适合制作那些小批量的高精度芯片或者器件，指望它们取代EUV光刻机也不现实。